米地亚离子源
考夫曼离子源；射频离子源；霍尔离子源；栅网
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详情描述
产品说明
考夫曼离子源现已在薄膜辅助沉积和表面处理中得到了日益广泛的应用，特别适用与中远红外镀膜。其膜层不但牢固，而且能在射频化学气相沉积条件下承受高温不脱膜。
Kufman离子源 ： 刻蚀源；聚焦源；辅助源
刻蚀源：KK-6；KK-8；KK-10；KK16； KK-20；KK-22； KK22?6
聚焦源：KF6；KF-8；KF16；
辅助源：KD-6；KD-12；KD-16；
产品参数
考夫曼离子源系列
型号 | Kdc-5 | Kdc-6 | KHdc-8 | Kdc-10 | Kdc-12 | KHdc-16 | Kdc-20 | Kdc-22 | KRdc-22?6 | KRdc-30?6 | ||
离子束流mA | ≥60 | ≥80 | ≥150 | ≥100 | ≥300 | ≥450 | ≥300 | ≥300 | ≥100 | ≥120 | ||
离子能量eV | 100-1000 | 100-1000 | 100-3000 | 100-1000 | 100-1000 | 100-1500 | 100-1000 | 100-1000 | 100-1000 | 100-1000 | ||
拔出束流直径cm | Φ5 | Φ6 | Φ8 | Φ10 | Φ12 | Φ16 | Φ20 | Φ22 |
22?6 | 30?6 | ||
离子束形态 | 平行 聚焦 发散 | |||||||||||
安装形式 | 法兰 | 法兰、内装 | 法兰 | 内装 | 内装 | 法兰、内装 | 法兰、内装 | 法兰 | 法兰 | 法兰 | ||
图片 |
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中和形式 | 内浸式灯丝 | 内浸式灯丝 离子桥中和器 | ||||||||||
