米地亚离子源
米地亚前身由原任中科院空间中心等离子体研究室主任尤大伟先生创办。
一、本公司研制生产了各种类型、各种尺寸、各类应用的宽束离子源产品。其广泛应用于半导体,光电器件的微图形刻蚀;制备光学薄膜的辅助镀膜;离子束镀膜;离子束注入;离子束抛光;离子束共混材料改性等各个领域。用户遍布各大学、科院院所、生产器件企业及军工等。经过多年在生产一线根据用户需求研发改造,逐步提高离子源使用过程中的稳定性,维护的方便性,耐用成度等,在此过程中积累很多经验,逐渐形成自己的特点,技术稳定在国内ling先、性价比高经久耐用,售后服务及时细致。
二、优势与特点
1 经过磁场优化及变孔离子光学设计使其具有较大的工作区及较小的不均匀性。
2 该源具有较高气效率及电效率。只要抗蚀胶允许,便可有较高的刻蚀速率。
3 该源配有全数字自动电源,束流可反馈、跟踪、中和可严格保证,工作参数可记忆重复使用,真正实现了一键式操作。
4 离子光学系统为单独组件,不必整体拆卸便可清洗维护。
5 阴极灯丝为双灯丝,在纯氩工作状态下可连续工作50小时以上,由于使用数字电源,可实现阴极灯丝的自动切换。
6 整个离子源可以连续稳定工作10小时以上,其性能稳定,维护方便。
7 带有电子中和装置(热丝)采用跟踪系统可保证充分中和的离子束刻蚀。配套电源采用全数字自动电源,实现通讯、反馈、双阴极灯丝自动切换。